China habría desarrollado un prototipo funcional de litografía EUV, tecnología clave para producir microchips de última generación utilizados en inteligencia artificial. El avance, impulsado por el Estado y grandes empresas tecnológicas, podría reducir la dependencia china de Occidente, debilitar el impacto de las sanciones estadounidenses y reconfigurar el mapa global de los semiconductores y la IA.